在发布最新财务报告期间，AMSL透露其EUV客户已经订购了新一代设备。
具体来说，紧随英特尔和TSMC之后的是三星，SK海力士，美光等还订购了高钠EUV光刻机
高NA EUV掩模对准器允许以更高的生产效率加工更精密的半导体芯片，并且它也是2nm和更高级工艺的必要条件。
据韩国设备供应商透露，目前EUV光刻机的订单价格为2000—3000亿韩元，而高NA EUV光刻机的价格翻了一番，达到5000亿韩元。
根据消息显示，在第三季度财报中，ASML实现净销售额58亿欧元，毛利率51.8%，净利润17亿欧元该公司预计第四季度的净销售额将在61亿至66亿欧元之间
首席执行官Peter Wennink第三季度销售额达到创纪录的89亿欧元，其中包括38亿欧元的EUV设备销售额。
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